Maximierung der Abgasreinigung mit Sprühturm
1. Funktionsprinzip
Das Abgas wird in den/die/das eingeleitet Reinigungsturm Durch den Luftkanal strömt das Abgas durch die Füllkörperschicht, wobei Abgas und Absorptionsflüssigkeit vollständig in Kontakt kommen und durch die Gas-Flüssigkeits-Zweiphasen-Neutralisationsreaktion absorbiert werden. Nach der Abgasreinigung wird das Abgas mittels der Demisterplatte entfeuchtet und entnebelt und anschließend durch den Ventilator in die Atmosphäre abgeleitet. Die Absorptionsflüssigkeit wird am Boden des Turms durch die Wasserpumpe unter Druck gesetzt, am Turmkopf versprüht und schließlich zur Wiederverwendung zurück zum Turmboden geleitet. Die Emissionsanforderungen für gereinigte saure Nebelabfälle entsprechen den Emissionsnormen.
2. Funktionen
1. Das Gerät benötigt wenig Platz und ist einfach zu installieren;
2. Die Indikatoren für Wasser- und Stromverbrauch sind niedrig;
3. Korrosionsbeständig, verschleißfest und mit langer Lebensdauer;
4. Das Gerät ist im Betrieb zuverlässig und einfach und bequem zu warten.
3. Struktur
4. Anwendungsbereich
Das Haupt AbgasreinigungsanlagenDie Anlage wird in der sauren und alkalischen Abgasreinigung eingesetzt und kann Abgase aus Chemieanlagen, Gummifabriken, Lackieranlagen, Kunststoffwerken und anderen Bereichen behandeln. Sie erzielt die besten Ergebnisse bei der Reinigung schädlicher Gase mit Verunreinigungen wie Mineralstaub, Arsen, Selen, Fluor, Schwefeldioxid usw. Das gereinigte Abgas wird oben aus dem Turm ausgestoßen und kommt vollständig mit dem Gas in der Füllkörperschicht in Kontakt, wodurch eine optimale Reinigung erreicht wird. Die wichtigsten schädlichen Gase, die mit dieser Anlage behandelt werden, sind: Schrubber Es handelt sich dabei um Schwefelsäurenebel, Salzsäurenebel, Chromsäurenebel, Salpetersäurenebel, Phosphorsäurenebel, Fluorwasserstoffsäurenebel, Chlorwasserstoff, Fluorwasserstoff, Schwefelwasserstoff, Cyanwasserstoff und andere Abgase aus stark umweltbelastenden Industrien. Diese werden absorbiert und gereinigt, um die Prozessanforderungen zu erfüllen. Die Reinigungswirkung ist dabei deutlich besser als bei herkömmlichen Füllkörperkolonnen und Plattenkolonnen. Das Verfahren findet Anwendung in Branchen und Bereichen wie der Galvanotechnik, der Oberflächenbehandlung, dem Beizen von Einkristall-Silizium, der Halbleiterreinigung, der Elektronikfertigung und der Beschichtungsproduktion.






