Purgatio Gasorum Excrementorum Maximisa cum Turri Pulveris
1. Principium operandi
Gas residuum inducitur in Turris Purificationis Per ductum aeris, per stratum implendi transit, et gas residuum et liquor absorptionis plene contactantur et absorbentur per reactionem neutralisationis biphasicam gasis-liquidi. Postquam gas residuum purificatum est, dehydratur et denegatur a lamina denegationis, deinde in atmosphaeram emittitur a ventilatore. Liquor absorptionis pressurizatur ab antlia aquaria in imo turris et aspergitur deorsum in summo turris, et denique refluxatur ad imum turris ad recyclandum. Requisita emissionis normae emissionis nebulae acidi purificati.
2. Proprietates
1. Instrumentum parvam aream occupat et facile installatur;
2. Indices consumptionis aquae et energiae humiles sunt;
3. Corrosioni resistens, non-atteri, et longa vita utilis;
4. Instrumentum in operatione fidum est et simplex ac commodum in conservatione.
3. Structura

4. Ambitus usus
Praecipuum apparatus curationis gasorum residuorumIn curatione gasorum residuorum acidorum et alcalinorum adhibitum, gas residuum ex officinis chemicis, officinis gummi, cubiculis pulverizationis picturae, officinis plasticis, et aliis locis tractare potest. Optimum effectum curationis habet contra gases noxios cum impuritatibus, ut pulvere minerali, arsenico, selenio, fluoro, dioxido sulphuris, etc. Gas residuum tractatum e summo turris emittitur, et plene in contactum cum gase in strato impletionis venire potest, ut effectus purificationis gasis tractati consequatur. Gases noxii praecipui ab... Detergens Sunt nebula acidi sulfurici, nebula acidi hydrochlorici, nebula acidi chromici, nebula acidi nitrici, nebula acidi phosphorici, nebula acidi hydrofluorici, hydrogenii chloridum, hydrogenii fluoridum, hydrogenii sulfidum, hydrogenii cyanidum, et alia vapora ex industriis valde polluentibus. Absorbentur et purificantur ut requisitis processus satisfaciant, et effectus earum multo meliores sunt quam effectus turrium compactarum et turrium laminarum traditionalium. Applicantur industriis et campis ut productio galvanoplastica, tractatio superficierum, decapatio silicii monocrystallini, purgatio semiconductorum, fabricatio electronica, et productio obductionum.
















